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GSL-1100X-PJF-(A)等離子表面處理儀是一種緊湊的大氣離子表面處理噴射系統，主要由射頻發生器、離子束頭組成，噴射的離子束流能在較低的溫度和非真空條件下活化和清理材料表面（例如單晶片、光學元件、塑料等），且清理速度迅速，清理后的物品表面干凈。使材料進行預先表面處理，為獲得高質量的外延薄膜或使光學涂層得到顯著的效果做準備工作。

PCE-6小型等離子清洗機的等離子腔體為 Φ160mm×190mm的石英腔體，采用的射頻電源功率3.0MHz（ 1%），輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設備。

PCE-8等離子清洗機是一款較大型的清洗機，等離子腔體為 Φ8.5 “×12“的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續可調節。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設備。

產品簡介：PCE-6V小型等離子清洗機集成了RF等離子體發生技術、計算機控制技術、軟件編程技術，采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內*清洗掉有機污染物，清洗程度可達到分子級。樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現對樣品的離子蝕刻。此外，其可在特定條件下

PCE-6小型等離子清洗機的等離子腔體為 Ø160mm×190mm的石英腔體，采用的射頻電源功率為3.0MHz（1%），輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設備。

產品簡介：轉瓶等離子清洗機，專為處理顆粒、粉末樣品而設計。在等離子體作用下，一些材料很容易發生斷鍵和聚合，轉瓶等離子清洗機可以高效率的處理微細的甚至分子級別的超細粉末材料，改變了傳統真空等離子清洗機無法處理顆粒、粉末樣品的問題。該機同樣也可以處理非粉末的樣品，實現了一機多用的功能。